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Optimal Parameter Estimation for the Online Control of Ion Milling Etch Depth / Klein, Eric J. in Aiche journal, Vol. 48 N°2 (Fevrier 2002) 

Public ISBD [article]  in Aiche journal > Vol. 48 N°2 (Fevrier 2002) . - 311-323 p. Titre : Optimal Parameter Estimation for the Online Control of Ion Milling Etch Depth Titre original : Evaluation Optimale de Paramètre pour la Commande en Ligne de la Profondeur de Fraisage Gravure à l'Eau Forte d'Ion Type de document : texte imprimé Auteurs : Klein, Eric J., Auteur ; Ramirez, W. Fred, Auteur Article en page(s) : 311-323 p. Note générale : Génie Chimique Langues : Anglais (eng) Mots-clés : Evaluation  optimale  Paramètre  Ligne  de  profondeur  Gravure  Eau  forte  Processus  de  fraisage  Système  de  commande  Dimension  Interféromètre  Laser  d'hétérodyne  Calcul  de  différence  Couche  de  vernis Index. décimale : 660.627.3 Résumé : The use of optimal parameter estimation for the online regulation of final etch depth in an ion milling process is described. A model-based control system utilizes a 3-D surface evolution model to predict dynamic surface profiles and etch depth. A heterodyne laser interferometer is used to measure trench height in situ for calculation of the difference in etch rates between the photoresist layer and the exposed portion of the underlying substrate layer. Adaptive material-specific etch rate parameters and operating parameters such as ion beam strength and angle of incidence are estimated optimally with an extended Kalman filter. Optimal estimates of the in situ etch depth are calculated from the adaptive model, allowing the stopping time of the milling process to be varied from run to run to regulate final etch depth in the presence of disturbances. The system installed on an ion milling machine shows that the controller is capable of accurately regulating final etch depth in the presence of large process faults. L'utilisation de l'évaluation optimale de paramètre pour le règlement en ligne de la profondeur finale gravure à l'eau forte dans un processus de fraisage d'ion est décrite. Un système de commande modèle-basé utilise un modèle extérieur à trois dimensions d'évolution pour prévoir des profils extérieurs dynamiques et pour graver à l'eau-forte la profondeur. Un interféromètre de laser d'hétérodyne est utilisé pour mesurer la taille de fossé in situ le calcul de la différence dans des taux gravure à l'eau forte entre la couche de vernis photosensible et la partie exposée de la couche fondamentale de substrat. Des paramètres matériel-spécifiques adaptatifs de taux gravure à l'eau forte et les paramètres d'emploi tels que la force de faisceau d'ions et l'angle d'incidence sont estimés de façon optimale avec un filtre prolongé de Kalman. Des évaluations optimales de la profondeur in situ gravure à l'eau forte sont calculées à partir du modèle adaptatif, accordant le temps d'arrêt du processus de fraisage être changé de la course à la course pour régler la profondeur finale gravure à l'eau forte en présence des perturbations. Le système installé sur une fraiseuse d'ion prouve que le contrôleur est capable de régler exactement la profondeur finale gravure à l'eau forte en présence de grands défauts de processus. DEWEY : 660 ISSN : 0001-1541 RAMEAU : Eau-forte En ligne : www.aiche.org, www.sciencedirect.com [article] Optimal Parameter Estimation for the Online Control of Ion Milling Etch Depth = Evaluation Optimale de Paramètre pour la Commande en Ligne de la Profondeur de Fraisage Gravure à l'Eau Forte d'Ion [texte imprimé] / Klein, Eric J., Auteur ; Ramirez, W. Fred, Auteur . - 311-323 p. Génie Chimique Langues : Anglais (eng) in Aiche journal > Vol. 48 N°2 (Fevrier 2002) . - 311-323 p. Mots-clés : Evaluation  optimale  Paramètre  Ligne  de  profondeur  Gravure  Eau  forte  Processus  de  fraisage  Système  de  commande  Dimension  Interféromètre  Laser  d'hétérodyne  Calcul  de  différence  Couche  de  vernis Index. décimale : 660.627.3 Résumé : The use of optimal parameter estimation for the online regulation of final etch depth in an ion milling process is described. A model-based control system utilizes a 3-D surface evolution model to predict dynamic surface profiles and etch depth. A heterodyne laser interferometer is used to measure trench height in situ for calculation of the difference in etch rates between the photoresist layer and the exposed portion of the underlying substrate layer. Adaptive material-specific etch rate parameters and operating parameters such as ion beam strength and angle of incidence are estimated optimally with an extended Kalman filter. Optimal estimates of the in situ etch depth are calculated from the adaptive model, allowing the stopping time of the milling process to be varied from run to run to regulate final etch depth in the presence of disturbances. The system installed on an ion milling machine shows that the controller is capable of accurately regulating final etch depth in the presence of large process faults. L'utilisation de l'évaluation optimale de paramètre pour le règlement en ligne de la profondeur finale gravure à l'eau forte dans un processus de fraisage d'ion est décrite. Un système de commande modèle-basé utilise un modèle extérieur à trois dimensions d'évolution pour prévoir des profils extérieurs dynamiques et pour graver à l'eau-forte la profondeur. Un interféromètre de laser d'hétérodyne est utilisé pour mesurer la taille de fossé in situ le calcul de la différence dans des taux gravure à l'eau forte entre la couche de vernis photosensible et la partie exposée de la couche fondamentale de substrat. Des paramètres matériel-spécifiques adaptatifs de taux gravure à l'eau forte et les paramètres d'emploi tels que la force de faisceau d'ions et l'angle d'incidence sont estimés de façon optimale avec un filtre prolongé de Kalman. Des évaluations optimales de la profondeur in situ gravure à l'eau forte sont calculées à partir du modèle adaptatif, accordant le temps d'arrêt du processus de fraisage être changé de la course à la course pour régler la profondeur finale gravure à l'eau forte en présence des perturbations. Le système installé sur une fraiseuse d'ion prouve que le contrôleur est capable de régler exactement la profondeur finale gravure à l'eau forte en présence de grands défauts de processus. DEWEY : 660 ISSN : 0001-1541 RAMEAU : Eau-forte En ligne : www.aiche.org, www.sciencedirect.com