Préparation et étude de dépôts solidifiés rapidement à base d'alliage Al-Si-Cu-Mg par procédé PVD (Physical Vaporisation Deposition) sur différents types de substrats / Elyes Saoudi (2024)

Public ISBD Titre : Préparation et étude de dépôts solidifiés rapidement à base d'alliage Al-Si-Cu-Mg par procédé PVD (Physical Vaporisation Deposition) sur différents types de substrats Type de document : document électronique Auteurs : Elyes Saoudi, Auteur ; Mesrati, Nadir, Directeur de thèse Editeur : [S.l.] : [s.n.] Année de publication : 2024 Importance : 1 fichier PDF (4.9 Mo) Présentation : ill. Note générale : Mode d'accès : accès au texte intégral par intranet. Thèse de Doctorat : Métallurgie : Alger, Ecole Nationale Polytechnique : 2024 Bibliogr. p. 117 - 128 . - Annexe [10] p. Langues : Français (fre) Mots-clés : Alliages AlSi Teneur en Si Solidification rapide Nanoindentation Nanodureté PVD Elastoplasticité Index. décimale : D001924 Résumé : Notre recherche a consisté à étudier l'effet de la teneur en silicium et de la nature du substrat sur des couches minces en Al-Si (1% Cu et 1% Mg) solidifiés rapidement. Pour cela, des films minces (sous forme de couches minces) d'Al-Si ont été déposés par la méthode PVD (Physical Vapor Desposition) sur trois substrats différents : acier inoxydable, silicium et verre, maintenus à température ambiante. La vitesse de refroidissement minimale atteinte est de l'irdre de 103 °C/s. Les tests de nanoindentation ont montré que la dureté et la résistance à la déformation par pénétration augmentent sensiblement jusqu’à 13% Si (teneur eutectique) au-delà, l’ajout de Si ne montre aucun effet sensible. Le comportement élastoplastique des films minces passe d’un mode plastique pour les substrats inox et silicium à un mode plutôt élastique pour le substrat verre. Le silicium a un effet bénéfique sur la résistance à l’usure des dépôts étudiés. Il parait l’être beaucoup plus pour les films sur substrat verre que pour les deux (substrat inox et silicium). Globalement, à une teneur eutectique de 13% en poids, le silicium améliore efficacement les propriétés mécaniques et tribologiques. La taille des cristallites évolue de manière complètement opposée à celle de la densité de dislocation et des micro-déformations, avec un minimum pour les mêmes valeurs de teneur en silicium (10 à 12%). L'analyse microstructurale a permis de mettre en évidence l'importance du silicium dans la formation des composés intermétalliques et son influence sur la répartition homogène de ces composés, ainsi que des particules de Si et leur affinage. La différence de comportement des couches minces déposées selon le substrat utilisé, montre que celui-ci influe directement sur leurs caractéristiques microstructurales et mécaniques de dureté. Préparation et étude de dépôts solidifiés rapidement à base d'alliage Al-Si-Cu-Mg par procédé PVD (Physical Vaporisation Deposition) sur différents types de substrats [document électronique] / Elyes Saoudi, Auteur ; Mesrati, Nadir, Directeur de thèse . - [S.l.] : [s.n.], 2024 . - 1 fichier PDF (4.9 Mo) : ill. Mode d'accès : accès au texte intégral par intranet. Thèse de Doctorat : Métallurgie : Alger, Ecole Nationale Polytechnique : 2024 Bibliogr. p. 117 - 128 . - Annexe [10] p. Langues : Français (fre) Mots-clés : Alliages AlSi Teneur en Si Solidification rapide Nanoindentation Nanodureté PVD Elastoplasticité Index. décimale : D001924 Résumé : Notre recherche a consisté à étudier l'effet de la teneur en silicium et de la nature du substrat sur des couches minces en Al-Si (1% Cu et 1% Mg) solidifiés rapidement. Pour cela, des films minces (sous forme de couches minces) d'Al-Si ont été déposés par la méthode PVD (Physical Vapor Desposition) sur trois substrats différents : acier inoxydable, silicium et verre, maintenus à température ambiante. La vitesse de refroidissement minimale atteinte est de l'irdre de 103 °C/s. Les tests de nanoindentation ont montré que la dureté et la résistance à la déformation par pénétration augmentent sensiblement jusqu’à 13% Si (teneur eutectique) au-delà, l’ajout de Si ne montre aucun effet sensible. Le comportement élastoplastique des films minces passe d’un mode plastique pour les substrats inox et silicium à un mode plutôt élastique pour le substrat verre. Le silicium a un effet bénéfique sur la résistance à l’usure des dépôts étudiés. Il parait l’être beaucoup plus pour les films sur substrat verre que pour les deux (substrat inox et silicium). Globalement, à une teneur eutectique de 13% en poids, le silicium améliore efficacement les propriétés mécaniques et tribologiques. La taille des cristallites évolue de manière complètement opposée à celle de la densité de dislocation et des micro-déformations, avec un minimum pour les mêmes valeurs de teneur en silicium (10 à 12%). L'analyse microstructurale a permis de mettre en évidence l'importance du silicium dans la formation des composés intermétalliques et son influence sur la répartition homogène de ces composés, ainsi que des particules de Si et leur affinage. La différence de comportement des couches minces déposées selon le substrat utilisé, montre que celui-ci influe directement sur leurs caractéristiques microstructurales et mécaniques de dureté.

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Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité	Spécialité	Etat_Exemplaire
T000462	D001924	Ressources électroniques	Bibliothèque centrale	Thèse de Doctorat	Disponible	Metallurgie	Téléchargeable