| Titre : | La pulvérisation cathodique magnétron en régime d’impulsions de haute puissance (HiPIMS) (2011) |
| Auteurs : | Matthieu MICHIELS, Auteur ; Stephanos KONSTANTINIDIS, Rony, Auteur |
| Type de document : | Article : texte imprimé |
| Dans : | Techniques de l'ingénieur MD (Vol. MD4, Trimestriel) |
| Article en page(s) : | pp. 1-17 |
| Note générale : | Traitements des métaux |
| Langues : | Français |
| Tags : | HiPIMS ; HPPMS ; plasma ; magnétro ; simulation ; films minces |
| Résumé : |
La technologie HiPIMS, high power impulse magnetron sputtering, représente une avancée majeure en matière de dépôts physiques de films minces fonctionnels en phase vapeur (physical vapor deposition).
Dans un premier temps, nous ferons un bref rappel de la pulvérisation cathodique magnétron conventionnelle. En second lieu, la technologie HiPIMS sera présentée schématiquement en abordant notamment les difficultés de génération et de mesure des impulsions. Nous présenterons également des méthodes de simulation et de conception de champs magnétiques appliquées aux dispositifs de pulvérisation magnétron. Finalement, deux cas particuliers d’application de cette technologie seront abordés : la croissance de films de dioxyde de titane et de trioxyde de tungstène. |
| Note de contenu : | Bibliogr. |
| REFERENCE : | IN207 |
| Date : | Octoubre 2013 |
| En ligne : | http://www.techniques-ingenieur.fr/base-documentaire/materiaux-th11/traitements-de-surface-des-metaux-par-voie-seche-et-en-milieu-fondu-42360210/la-pulverisation-cathodique-magnetron-en-regime-d-impulsions-de-haute-puissance-hipims-in207/ |
