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Predictions of sulfur resistance in metal membranes for H2 purification using first - principles calculations

Ki Chul Kim, Auteur ; Sung Gu Kang, Auteur ; David S. Sholl, Auteur |

Dans Industrial & engineering chemistry research (Vol. 51 N° 1, Janvier 2012)

Contamination of metal films by sulfur-containing compounds presents a major challenge to using metal membranes for H2 purification in processes involving large-scale gasification of coal or biomass. Formation of bulk sulfide phases in these app[...]

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