| Titre : | Atomic Layer Deposition (ALD) : principes généraux, matériaux et applications : réf. internet :RE253 |
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| Auteurs : | Nathanaelle Schneider, Auteur ; Frédérique Donsanti, Auteur |
| Type de document : | texte imprimé |
| Année de publication : | 2016 |
| Format : | p.369-382 / ill. |
| Note générale : | Bibliogr. p. 381-382 |
| Langues : | Français |
| Tags : | Matériau -- Couches minces, |
| Note de contenu : |
Au sommaire
- Contexte - Principe général de l’ald - Procédé ald - Matériaux déposés par ald - Applications de l’ald - Conclusion - Glossaire |
Exemplaires
| Cote | Support | Localisation | Section | Disponibilité |
|---|---|---|---|---|
| aucun exemplaire |
