| Titre : | ALD en microélectronique : applications, équipements et productivité: réf. internet: RE255 |
| Auteurs : | John Vince, Auteur |
| Type de document : | texte imprimé |
| Année de publication : | 2016 |
| Format : | p.145-162 / ill. |
| Note générale : | Bibliogr p.161 |
| Langues : | Anglais |
| Note de contenu : |
Au sommaire:
- Mémoires dram - Les capacités mim - Les transistors hkmg - Espaceurs - Masquage pour la fabrication de petites structures - Interconnexions et contact - Types de chambres de dépôt ald et vitesse de dépôt - Dépôt peald modifié pour l’augmentation de la cinétique de croissance de ta2o5 - Conclusion |
Exemplaires
| Cote | Support | Localisation | Section | Disponibilité |
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| aucun exemplaire |
