La pulvérisation cathodique magnétron en régime d’impulsions de haute puissance (HiPIMS) / Matthieu MICHIELS in Techniques de l'ingénieur MD, Vol. MD4 (Trimestriel)  

Public ISBD [article]  inTechniques de l'ingénieur MD > Vol. MD4 (Trimestriel) . - pp. 1-17 Titre : La pulvérisation cathodique magnétron en régime d’impulsions de haute puissance (HiPIMS) Type de document : texte imprimé Auteurs : Matthieu MICHIELS, Auteur ; Stephanos KONSTANTINIDIS, Rony, Auteur Année de publication : 2011 Article en page(s) : pp. 1-17 Note générale : Traitements des métaux Langues : Français (fre) Mots-clés : HiPIMS  HPPMS  plasma  magnétro  simulation  films minces Résumé : La technologie HiPIMS, high power impulse magnetron sputtering, représente une avancée majeure en matière de dépôts physiques de films minces fonctionnels en phase vapeur (physical vapor deposition). Dans un premier temps, nous ferons un bref rappel de la pulvérisation cathodique magnétron conventionnelle. En second lieu, la technologie HiPIMS sera présentée schématiquement en abordant notamment les difficultés de génération et de mesure des impulsions. Nous présenterons également des méthodes de simulation et de conception de champs magnétiques appliquées aux dispositifs de pulvérisation magnétron. Finalement, deux cas particuliers d’application de cette technologie seront abordés : la croissance de films de dioxyde de titane et de trioxyde de tungstène. Note de contenu : Bibliogr. REFERENCE : IN207 Date : Octoubre 2013 En ligne : http://www.techniques-ingenieur.fr/base-documentaire/materiaux-th11/traitements- [...] [article] La pulvérisation cathodique magnétron en régime d’impulsions de haute puissance (HiPIMS) [texte imprimé] / Matthieu MICHIELS, Auteur ; Stephanos KONSTANTINIDIS, Rony, Auteur . - 2011 . - pp. 1-17. Traitements des métaux Langues : Français (fre) in Techniques de l'ingénieur MD > Vol. MD4 (Trimestriel) . - pp. 1-17 Mots-clés : HiPIMS  HPPMS  plasma  magnétro  simulation  films minces Résumé : La technologie HiPIMS, high power impulse magnetron sputtering, représente une avancée majeure en matière de dépôts physiques de films minces fonctionnels en phase vapeur (physical vapor deposition). Dans un premier temps, nous ferons un bref rappel de la pulvérisation cathodique magnétron conventionnelle. En second lieu, la technologie HiPIMS sera présentée schématiquement en abordant notamment les difficultés de génération et de mesure des impulsions. Nous présenterons également des méthodes de simulation et de conception de champs magnétiques appliquées aux dispositifs de pulvérisation magnétron. Finalement, deux cas particuliers d’application de cette technologie seront abordés : la croissance de films de dioxyde de titane et de trioxyde de tungstène. Note de contenu : Bibliogr. REFERENCE : IN207 Date : Octoubre 2013 En ligne : http://www.techniques-ingenieur.fr/base-documentaire/materiaux-th11/traitements- [...]

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