| Titre : |
Atomic Layer Deposition (ALD) : principes généraux, matériaux et applications : réf. internet :RE253 |
| Type de document : |
texte imprimé |
| Auteurs : |
Nathanaelle Schneider, Auteur ; Frédérique Donsanti, Auteur |
| Année de publication : |
2016 |
| Importance : |
p.369-382 |
| Présentation : |
ill. |
| Note générale : |
Bibliogr. p. 381-382 |
| Langues : |
Français (fre) |
| Mots-clés : |
Matériau -- Couches minces, |
| Note de contenu : |
Au sommaire
- Contexte
- Principe général de l’ald
- Procédé ald
- Matériaux déposés par ald
- Applications de l’ald
- Conclusion
- Glossaire |
Atomic Layer Deposition (ALD) : principes généraux, matériaux et applications : réf. internet :RE253 [texte imprimé] / Nathanaelle Schneider, Auteur ; Frédérique Donsanti, Auteur . - 2016 . - p.369-382 : ill. Bibliogr. p. 381-382 Langues : Français ( fre)
| Mots-clés : |
Matériau -- Couches minces, |
| Note de contenu : |
Au sommaire
- Contexte
- Principe général de l’ald
- Procédé ald
- Matériaux déposés par ald
- Applications de l’ald
- Conclusion
- Glossaire |
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