Atomic Layer Deposition (ALD) / Nathanaelle Schneider (2016)

Public ISBD in Techniques de l'ingénieur : innovations technologique Ti958. Innovations en matériaux avancés / Annie Boudrant (2012)   Titre : Atomic Layer Deposition (ALD) : principes généraux, matériaux et applications : réf. internet :RE253 Type de document : texte imprimé Auteurs : Nathanaelle Schneider, Auteur ; Frédérique Donsanti, Auteur Année de publication : 2016 Importance : p.369-382 Présentation : ill. Note générale : Bibliogr. p. 381-382 Langues : Français (fre) Mots-clés : Matériau -- Couches minces, Note de contenu : Au sommaire - Contexte - Principe général de l’ald - Procédé ald - Matériaux déposés par ald - Applications de l’ald - Conclusion - Glossaire in Techniques de l'ingénieur : innovations technologique Ti958. Innovations en matériaux avancés / Annie Boudrant (2012)   Atomic Layer Deposition (ALD) : principes généraux, matériaux et applications : réf. internet :RE253 [texte imprimé] / Nathanaelle Schneider, Auteur ; Frédérique Donsanti, Auteur . - 2016 . - p.369-382 : ill. Bibliogr. p. 381-382 Langues : Français (fre) Mots-clés : Matériau -- Couches minces, Note de contenu : Au sommaire - Contexte - Principe général de l’ald - Procédé ald - Matériaux déposés par ald - Applications de l’ald - Conclusion - Glossaire

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