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in Techniques de l'ingénieur MD > Vol. MD3 (Trimestriel) . - 16 p.
Titre : Dépôt électrolytique de l'or et de l'argent Type de document : texte imprimé Auteurs : Chalumeau, Lionel, Auteur Année de publication : 2007 Article en page(s) : 16 p. Note générale : Bibliogr. Langues : Français (fre) Mots-clés : Electrolytique Résumé : L’or et l’argent font partie de la famille des métaux nobles (or, argent, palladium, platine, rhodium, ruthénium, osmium et iridium). Ils possèdent des propriétés physico-chimiques recherchées, tant pour des applications techniques, que décoratives. Ces propriétés ne sont souvent nécessaires qu’en surface des pièces fabriquées. Réalisées dans un matériau, généralement non-noble pour des raisons techniques (mécaniques, thermomécaniques, thermiques, massiques) ou économiques, ces pièces seront traitées superficiellement et une couche du métal noble retenu sera ainsi élaborée à l’aide d’un procédé judicieux choisi.
Lorsque le substrat est conducteur (ou rendu conducteur), il est aisé d’obtenir cette couche métallique superficielle par voie électrolytique.
Le potentiel standard des métaux nobles étant parmi les plus élevés, la plage de stabilité de leur oxyde, en solution aqueuse, en est d’autant plus réduite. Afin de maintenir en solution les formes oxydées de ces métaux et ainsi de pouvoir les réduire à la cathode, des formulations mêlant complexant, système tampon de pH et d’autres additifs, stabilisateur ou accélérateur de dépôt, ont été développées. Ces formulations permettent d’obtenir des revêtements dont les propriétés sont corrélées aux paramètres d’électrolyse. En effet, s’il est souvent possible d’obtenir des revêtements dont les propriétés sont proches de celles du métal brut recuit, il est également possible de modifier certaines propriétés mécaniques, ou électriques, en agissant sur la température, l’agitation, la densité de courant ou la concentration de certains constituants par exemple. Le choix du métal, ainsi que du procédé d’obtention du revêtement, se fera donc selon la fonctionnalisation recherchée du substrat à revêtir.
Les revêtements électrolytiques élaborés en milieu aqueux mettent en œuvre des électrolytes (ou bains) composés de mélanges de produits chimiques, souvent nocifs et parfois toxiques. Ceci est d’autant plus vrai pour le revêtement électrolytique d’or et d’argent que les conditions de solubilisation de leurs formes oxydées mettent souvent en jeu du cyanure, ou des acides et des bases très concentrés. Si quelques solutions moins dangereuses sont proposées, leur industrialisation est encore balbutiante. Il conviendra donc de prendre toutes les précautions nécessaires pour protéger l’opérateur et son environnement.
REFERENCE : M 1 625v2 DEWEY : 620.1 Date : Septembre 2010 En ligne : http://www.techniques-ingenieur.fr [article] Dépôt électrolytique de l'or et de l'argent [texte imprimé] / Chalumeau, Lionel, Auteur . - 2007 . - 16 p.
Bibliogr.
Langues : Français (fre)
in Techniques de l'ingénieur MD > Vol. MD3 (Trimestriel) . - 16 p.
Mots-clés : Electrolytique Résumé : L’or et l’argent font partie de la famille des métaux nobles (or, argent, palladium, platine, rhodium, ruthénium, osmium et iridium). Ils possèdent des propriétés physico-chimiques recherchées, tant pour des applications techniques, que décoratives. Ces propriétés ne sont souvent nécessaires qu’en surface des pièces fabriquées. Réalisées dans un matériau, généralement non-noble pour des raisons techniques (mécaniques, thermomécaniques, thermiques, massiques) ou économiques, ces pièces seront traitées superficiellement et une couche du métal noble retenu sera ainsi élaborée à l’aide d’un procédé judicieux choisi.
Lorsque le substrat est conducteur (ou rendu conducteur), il est aisé d’obtenir cette couche métallique superficielle par voie électrolytique.
Le potentiel standard des métaux nobles étant parmi les plus élevés, la plage de stabilité de leur oxyde, en solution aqueuse, en est d’autant plus réduite. Afin de maintenir en solution les formes oxydées de ces métaux et ainsi de pouvoir les réduire à la cathode, des formulations mêlant complexant, système tampon de pH et d’autres additifs, stabilisateur ou accélérateur de dépôt, ont été développées. Ces formulations permettent d’obtenir des revêtements dont les propriétés sont corrélées aux paramètres d’électrolyse. En effet, s’il est souvent possible d’obtenir des revêtements dont les propriétés sont proches de celles du métal brut recuit, il est également possible de modifier certaines propriétés mécaniques, ou électriques, en agissant sur la température, l’agitation, la densité de courant ou la concentration de certains constituants par exemple. Le choix du métal, ainsi que du procédé d’obtention du revêtement, se fera donc selon la fonctionnalisation recherchée du substrat à revêtir.
Les revêtements électrolytiques élaborés en milieu aqueux mettent en œuvre des électrolytes (ou bains) composés de mélanges de produits chimiques, souvent nocifs et parfois toxiques. Ceci est d’autant plus vrai pour le revêtement électrolytique d’or et d’argent que les conditions de solubilisation de leurs formes oxydées mettent souvent en jeu du cyanure, ou des acides et des bases très concentrés. Si quelques solutions moins dangereuses sont proposées, leur industrialisation est encore balbutiante. Il conviendra donc de prendre toutes les précautions nécessaires pour protéger l’opérateur et son environnement.
REFERENCE : M 1 625v2 DEWEY : 620.1 Date : Septembre 2010 En ligne : http://www.techniques-ingenieur.fr
in Techniques de l'ingénieur MD > Vol. MD3 (Trimestriel) . - 12 p.
Titre : Dépôt électrolytiques à partir d'une phase gazeuse Type de document : texte imprimé Auteurs : Belmonte, Thierry, Auteur Année de publication : 2007 Article en page(s) : 12 p. Note générale : Bibliogr. Langues : Français (fre) Mots-clés : Electrolytiques; phase gazeuse Résumé : Parmi les revêtements susceptibles de conférer des propriétés nouvelles aux surfaces qu’ils recouvrent, ceux obtenus par le procédé de dépôts chimiques à partir d’une phase gazeuse (Chemical Vapor Deposition : CVD) connaissent incontestablement un grand développement.
Ce procédé consiste à mettre un composé volatil du matériau à déposer en contact soit avec un autre gaz au voisinage de la surface à recouvrir, soit avec la surface en question, de façon à provoquer une réaction chimique donnant au moins un produit solide.
Originellement, la température du substrat fournit l’énergie d’activation nécessaire pour déclencher la réaction chimique et favoriser, lorsqu’elle est suffisamment élevée (800 à 1 000 °C), la diffusion dans ce substrat des atomes apportés à la surface. Cette diffusion à l’état solide entraîne une modification des produits de la réaction et assure généralement une bonne adhérence au revêtement. Ce procédé permet d’obtenir des couches d’épaisseur variable de pratiquement tous les métaux, alliages ou composés métalliques, sur des matériaux conducteurs ou isolants. Il permet aussi d’obtenir, en plus des revêtements, des poudres fines ou des échantillons massifs.
Depuis ce procédé originel, bien des variantes ont été développées, visant, soit à décroître les températures d’élaboration en recourant à des sources d’énergie non thermiques comme les plasmas, les lasers, ou à des précurseurs labiles comme les organométalliques, soit à accroître les rendements de dépôt en utilisant des techniques de spray par exemple, soit encore à travailler de manière « localisée », c’est-à-dire sur des surfaces suffisamment petites pour considérer les dépôts comme des points pouvant servir d’unités de base à la construction de micro-objets bi- ou tridimensionnels.
L’appareillage pour l’obtention de ces dépôts varie considérablement suivant le type de dépôts que l’on désire (procédés isothermes, non isothermes, statiques, dynamiques, basse pression, etc.).
Les propriétés des revêtements (adhérence, porosité, stœchiométrie, pureté, etc.) sont généralement suffisamment satisfaisantes pour s’ouvrir à des applications industrielles.
Les principaux domaines d’application du procédé CVD peuvent se classer en deux catégories suivant que le produit formé donne un revêtement (ou couche) sur un substrat, ou un produit solide indépendamment d’un substrat.
L’obtention d’un revêtement permet la protection contre l’usure mécanique (TiC, TiN, Al2O3, etc.), la protection contre la corrosion et l’oxydation à haute température (Cr, Al, Si, etc.), la réalisation de composants pour la microélectronique (GaAs, Si, AlN, etc.).
La formation de produits solides conduit à des produits pulvérulents de grande pureté, à des monocristaux et permet de consolider des matériaux poreux ou frittés.
Les techniques CVD complètent avantageusement d’autres modes de dépôts (évaporation sous vide, projection cathodique, électrodéposition, etc.). C’est pour cela qu’elles sont devenues prépondérantes dans des domaines industriels tels que l’aéronautique, l’électronique, la chimie, etc.
Elles nécessitent toutefois une maîtrise approfondie de la dynamique des fluides qui gouverne les transports des précurseurs, jusqu’à la surface réactionnelle.REFERENCE : 1660v2 DEWEY : 620.1 Date : Septembre 2010 En ligne : http://www.techniques-ingenieur.fr [article] Dépôt électrolytiques à partir d'une phase gazeuse [texte imprimé] / Belmonte, Thierry, Auteur . - 2007 . - 12 p.
Bibliogr.
Langues : Français (fre)
in Techniques de l'ingénieur MD > Vol. MD3 (Trimestriel) . - 12 p.
Mots-clés : Electrolytiques; phase gazeuse Résumé : Parmi les revêtements susceptibles de conférer des propriétés nouvelles aux surfaces qu’ils recouvrent, ceux obtenus par le procédé de dépôts chimiques à partir d’une phase gazeuse (Chemical Vapor Deposition : CVD) connaissent incontestablement un grand développement.
Ce procédé consiste à mettre un composé volatil du matériau à déposer en contact soit avec un autre gaz au voisinage de la surface à recouvrir, soit avec la surface en question, de façon à provoquer une réaction chimique donnant au moins un produit solide.
Originellement, la température du substrat fournit l’énergie d’activation nécessaire pour déclencher la réaction chimique et favoriser, lorsqu’elle est suffisamment élevée (800 à 1 000 °C), la diffusion dans ce substrat des atomes apportés à la surface. Cette diffusion à l’état solide entraîne une modification des produits de la réaction et assure généralement une bonne adhérence au revêtement. Ce procédé permet d’obtenir des couches d’épaisseur variable de pratiquement tous les métaux, alliages ou composés métalliques, sur des matériaux conducteurs ou isolants. Il permet aussi d’obtenir, en plus des revêtements, des poudres fines ou des échantillons massifs.
Depuis ce procédé originel, bien des variantes ont été développées, visant, soit à décroître les températures d’élaboration en recourant à des sources d’énergie non thermiques comme les plasmas, les lasers, ou à des précurseurs labiles comme les organométalliques, soit à accroître les rendements de dépôt en utilisant des techniques de spray par exemple, soit encore à travailler de manière « localisée », c’est-à-dire sur des surfaces suffisamment petites pour considérer les dépôts comme des points pouvant servir d’unités de base à la construction de micro-objets bi- ou tridimensionnels.
L’appareillage pour l’obtention de ces dépôts varie considérablement suivant le type de dépôts que l’on désire (procédés isothermes, non isothermes, statiques, dynamiques, basse pression, etc.).
Les propriétés des revêtements (adhérence, porosité, stœchiométrie, pureté, etc.) sont généralement suffisamment satisfaisantes pour s’ouvrir à des applications industrielles.
Les principaux domaines d’application du procédé CVD peuvent se classer en deux catégories suivant que le produit formé donne un revêtement (ou couche) sur un substrat, ou un produit solide indépendamment d’un substrat.
L’obtention d’un revêtement permet la protection contre l’usure mécanique (TiC, TiN, Al2O3, etc.), la protection contre la corrosion et l’oxydation à haute température (Cr, Al, Si, etc.), la réalisation de composants pour la microélectronique (GaAs, Si, AlN, etc.).
La formation de produits solides conduit à des produits pulvérulents de grande pureté, à des monocristaux et permet de consolider des matériaux poreux ou frittés.
Les techniques CVD complètent avantageusement d’autres modes de dépôts (évaporation sous vide, projection cathodique, électrodéposition, etc.). C’est pour cela qu’elles sont devenues prépondérantes dans des domaines industriels tels que l’aéronautique, l’électronique, la chimie, etc.
Elles nécessitent toutefois une maîtrise approfondie de la dynamique des fluides qui gouverne les transports des précurseurs, jusqu’à la surface réactionnelle.REFERENCE : 1660v2 DEWEY : 620.1 Date : Septembre 2010 En ligne : http://www.techniques-ingenieur.fr
in Techniques de l'ingénieur MD > Vol. MD3 (Trimestriel) . - 7 p.
Titre : JETMETAL: procédé innovant de dépôts métalliques ou d'alliages Type de document : texte imprimé Auteurs : Guy tremsdoerfer, Auteur Année de publication : 2007 Article en page(s) : 7 p. Note générale : Bibliogr. Langues : Français (fre) Mots-clés : Revêtements métalliques Traitements de surfaces Dépôt par projection Films minces Résumé : En 2009, les revêtements par voie humide représentaient 25% du chiffre d’affaires des traitements de surface, soit pour l’Europe élargi à 25 pays, 3,85 milliards d’euros. Parmi ces revêtements, les techniques au « trempé » de la galvanoplastie sont utilisées dans la plupart des domaines. Ces technologies matures mais polluantes sont aujourd’hui fragilisées par la mise en place de nouvelles normes environnementales, par des demandes croissantes du marché et par des contraintes de cadence de production et de coût d’élaboration. Nous présentons ici une nouvelle technologie baptisée JetMetalTM qui permet de s’affranchir de ces contraintes. REFERENCE : IN 204TECHNO Date : Septembre 2012 En ligne : http://www.techniques-ingenieur.fr/base-documentaire/innovations-th10/innovation [...] [article] JETMETAL: procédé innovant de dépôts métalliques ou d'alliages [texte imprimé] / Guy tremsdoerfer, Auteur . - 2007 . - 7 p.
Bibliogr.
Langues : Français (fre)
in Techniques de l'ingénieur MD > Vol. MD3 (Trimestriel) . - 7 p.
Mots-clés : Revêtements métalliques Traitements de surfaces Dépôt par projection Films minces Résumé : En 2009, les revêtements par voie humide représentaient 25% du chiffre d’affaires des traitements de surface, soit pour l’Europe élargi à 25 pays, 3,85 milliards d’euros. Parmi ces revêtements, les techniques au « trempé » de la galvanoplastie sont utilisées dans la plupart des domaines. Ces technologies matures mais polluantes sont aujourd’hui fragilisées par la mise en place de nouvelles normes environnementales, par des demandes croissantes du marché et par des contraintes de cadence de production et de coût d’élaboration. Nous présentons ici une nouvelle technologie baptisée JetMetalTM qui permet de s’affranchir de ces contraintes. REFERENCE : IN 204TECHNO Date : Septembre 2012 En ligne : http://www.techniques-ingenieur.fr/base-documentaire/innovations-th10/innovation [...]
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